英文:Direct writing imaging exposure equipment
GB/T 43725-2024介绍:
国家标准《直写成像式曝光设备》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司。
主要起草人何少锋 、陈新 、邱醒亚 、乔书晓 、沈桂珍 、朱颖 、陈黎阳 、方林 、曲鲁杰 、许静平 、陈东 、崔良端 、陆培良 、吴怡然 、曹可慰 、赵俊莎 、李香滨 、严孝年 、鲁男 、李娜 、李照辉 、吴新民 。
GB/T 43725-2024标准状态:
- 发布于2024-03-15
- 实施于2024-10-01
- 废止
GB/T 43725-2024基础信息:
标准号:GB/T 43725-2024
发布日期:2024-03-15
实施日期:2024-10-01
标准类别:产品
中国标准分类号:L97
国际标准分类号: 31.260
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门:国家标准化管理委员会
GB/T 43725-2024起草单位:
合肥芯碁微电子装备股份有限公司,安徽省工业和信息化研究院,四创电子股份有限公司,合肥矽迈微电子科技有限公司,深圳拜波赫技术有限公司,广州兴森快捷电路科技有限公司,深南电路股份有限公司,中国电子技术标准化研究院,深圳市克洛诺斯科技有限公司,
GB/T 43725-2024起草人:
何少锋, 陈新, 沈桂珍, 朱颖, 曲鲁杰, 许静平, 陆培良, 吴怡然, 李香滨, 严孝年, 李照辉, 吴新民, 邱醒亚,乔书晓,陈黎阳,方林,陈东,崔良端,曹可慰,赵俊莎,鲁男,李娜,