七点标准网英文：Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
GB/T 19921-2018介绍：
国家标准《硅抛光片表面颗粒测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院、天津市环欧半导体材料技术有限公司。
主要起草人孙燕 、刘卓 、冯泉林 、徐新华 、张海英 、骆红 、刘义 、杨素心 、张雪囡 。
GB/T 19921-2018标准状态：
- 发布于2018-12-28
- 实施于2019-07-01
- 废止
GB/T 19921-2018基础信息：
标准号：GB/T 19921-2018
发布日期：2018-12-28
实施日期：2019-07-01
全部代替标准：GB/T 19921-2005
中国标准分类号：H21
国际标准分类号： 77.040
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门：国家标准化管理委员会
GB/T 19921-2018替代以下标准：
全部代替GB/T 19921-2005
GB/T 19921-2018起草单位：
有研半导体材料有限公司，浙江金瑞泓科技股份有限公司，有色金属技术经济研究院，上海合晶硅材料有限公司，南京国盛电子有限公司，天津市环欧半导体材料技术有限公司，
GB/T 19921-2018起草人：
孙燕，刘卓，张海英，骆红，张雪囡，冯泉林，徐新华，刘义，杨素心，