七点标准网英文：Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
GB/T 40279-2021介绍：
国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技（上海）有限公司、开化县检验检测研究院。
主要起草人徐继平 、宁永铎 、卢立延 、孙燕 、张海英 、由佰玲 、潘金平 、李扬 、胡晓亮 、张雪囡 、楼春兰 、盘健冰 。
GB/T 40279-2021标准状态：
- 发布于2021-08-20
- 实施于2022-03-01
- 废止
GB/T 40279-2021基础信息：
标准号：GB/T 40279-2021
发布日期：2021-08-20
实施日期：2022-03-01
中国标准分类号：H21
国际标准分类号： 77.040
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门：国家标准化管理委员会
GB/T 40279-2021起草单位：
有研半导体材料有限公司，浙江金瑞泓科技股份有限公司，中环领先半导体材料有限公司，麦斯克电子材料股份有限公司，开化县检验检测研究院，山东有研半导体材料有限公司，优尼康科技有限公司，浙江海纳半导体有限公司，翌颖科技（上海）有限公司，
GB/T 40279-2021起草人：
徐继平，宁永铎，张海英，由佰玲，胡晓亮，张雪囡，卢立延，孙燕，潘金平，李扬，楼春兰，盘健冰，