七点标准网英文：Test method for crystallographic perfection of epitaxial layers in silicon—Etching technique
GB/T 14142-2017介绍：
国家标准《硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位南京国盛电子有研公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司。
主要起草人马林宝 、骆红 、杨帆 、刘小青 、陈赫 、张海英 。
GB/T 14142-2017标准状态：
- 发布于2017-09-29
- 实施于2018-04-01
- 废止
GB/T 14142-2017基础信息：
标准号：GB/T 14142-2017
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
全部代替标准：GB/T 14142-1993
中国标准分类号：H25
国际标准分类号： 77.040
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门：国家标准化管理委员会
GB/T 14142-2017替代以下标准：
全部代替GB/T 14142-1993
GB/T 14142-2017起草单位：
南京国盛电子有研公司，浙江金瑞泓科技股份有限公司，有研半导体材料有限公司，
GB/T 14142-2017起草人：
马林宝，骆红，陈赫，张海英，杨帆，刘小青，