英文:Magnetron sputtering ruthenium target
GB/T 34649-2017介绍:
国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口上报,TC243SC5(全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。
主要起草单位有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。
主要起草人罗俊锋 、丁照崇 、李勇军 、向磊 、万小勇 、刘书芹 、熊晓东 、王庄 、贺昕 、滕海涛 、高岩 。
GB/T 34649-2017标准状态:
- 发布于2017-09-29
- 实施于2018-04-01
- 废止
GB/T 34649-2017基础信息:
标准号:GB/T 34649-2017
发布日期:2017-09-29
实施日期:2018-04-01
中国标准分类号:H68
国际标准分类号: 77.150.99
归口单位:全国有色金属标准化技术委员会
执行单位:全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会
主管部门:中国有色金属工业协会
GB/T 34649-2017起草单位:
有研亿金新材料有限公司,有色金属技术经济研究院,
GB/T 34649-2017起草人:
罗俊锋,丁照崇,万小勇,刘书芹,贺昕,滕海涛,李勇军,向磊,熊晓东,王庄,高岩,