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GB/T 41153-2021碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法标准

英文:Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry

GB/T 41153-2021介绍:

国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司。

主要起草人马农农 、何友琴 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、张红岩 。

GB/T 41153-2021标准状态:

  1. 发布于2021-12-31
  2. 实施于2022-07-01
  3. 废止

GB/T 41153-2021基础信息:

标准号:GB/T 41153-2021

发布日期:2021-12-31

实施日期:2022-07-01

中国标准分类号:H17

国际标准分类号: 77.040

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

GB/T 41153-2021起草单位:

中国电子科技集团公司第四十六研究所,山东天岳先进科技股份有限公司,有色金属技术经济研究院有限责任公司,

GB/T 41153-2021起草人:

马农农,何友琴,何烜坤,李素青,陈潇,刘立娜,张红岩,

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