英文:Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
GB/T 37049-2018介绍:
国家标准《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司。
主要起草人鲁文锋 、刘晓霞 、秦榕 、孙燕 、赵而敬 、王桃霞 、赵玉 、王忠慧 、柳德发 、张园园 、银波 、邱艳梅 、刘强 。
GB/T 37049-2018标准状态:
- 发布于2018-12-28
- 实施于2019-04-01
- 废止
GB/T 37049-2018基础信息:
标准号:GB/T 37049-2018
发布日期:2018-12-28
实施日期:2019-04-01
中国标准分类号:H17
国际标准分类号: 77.040.30
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门:国家标准化管理委员会
GB/T 37049-2018起草单位:
江苏中能硅业科技发展有限公司,有研半导体材料有限公司,新特能源股份有限公司,青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司,宜昌南玻硅材料有限公司,洛阳中硅高科技有限公司,
GB/T 37049-2018起草人:
鲁文锋,刘晓霞,赵而敬,王桃霞,柳德发,张园园,刘强,秦榕,孙燕,赵玉,王忠慧,银波,邱艳梅,