英文:Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
GB/T 41652-2022介绍:
国家标准《刻蚀机用硅电极及硅环》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司。
主要起草人库黎明 、孙燕 、闫志瑞 、张果虎 、夏秋良 、潘金平 。
GB/T 41652-2022标准状态:
- 发布于2022-07-11
- 实施于2023-02-01
- 废止
GB/T 41652-2022基础信息:
标准号:GB/T 41652-2022
发布日期:2022-07-11
实施日期:2023-02-01
中国标准分类号:H 82
国际标准分类号: 29.045
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门:国家标准化管理委员会
GB/T 41652-2022起草单位:
有研半导体硅材料股份公司,新美光(苏州)半导体科技有限公司,山东有研半导体材料有限公司,浙江海纳半导体有限公司,
GB/T 41652-2022起草人:
库黎明,孙燕,夏秋良,潘金平,闫志瑞,张果虎,