英文:Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
GB/T 41064-2021介绍:
国家标准《表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口上报,TC38SC2(全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位清华大学、中国石油大学(北京)。
主要起草人姚文清 、段建霞 、杨立平 、王雅君 、李展平 、徐同广 、王岩华 。
GB/T 41064-2021标准状态:
- 发布于2021-12-31
- 实施于2022-07-01
- 废止
GB/T 41064-2021基础信息:
标准号:GB/T 41064-2021
发布日期:2021-12-31
实施日期:2022-07-01
中国标准分类号:G04
国际标准分类号: 71.040.40
归口单位:全国微束分析标准化技术委员会
执行单位:全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会
主管部门:国家标准化管理委员会
GB/T 41064-2021采标情况:
本标准等同采用ISO国际标准:ISO 17109:2015。
采标中文名称:表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法。
GB/T 41064-2021起草单位:
清华大学,中国石油大学(北京),
GB/T 41064-2021起草人:
姚文清,段建霞,李展平,徐同广,杨立平,王雅君,王岩华,